Baffle

Dettagli del prodotto

Nome:

Deflettore Quarzo da 12 pollici

Funzione e applicazione:

Riflettendo e diffondendo l'energia termica, il deflettore di quarzo aiuta a distribuire il calore in modo più uniforme e protegge efficacemente le wafer dalla radiazione diretta e dal surriscaldamento localizzato all'interno dei forni di processo ad alta temperatura. Viene applicato nei processi di diffusione, ossidazione e deposizione CVD nella produzione di wafer, che sono processi ad alta temperatura.

Requisiti di prestazione:

Alta resistenza a temperature, resistenza alla corrosione, eccellente stabilità termica, trattamento superficiale sabbiato e basso contenuto di impurità.

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Maggiori informazioni sui prodotti

IlDeflettore di quarzo con fori è un componente progettato con precisione progettato per ottimizzare il flusso del gas e l'uniformità della temperatura all'interno dei sistemi di semiconduttori e forni fotovoltaici. Realizzato in quarzo fuso ad alta purezza, offre un'eccellente resistenza agli urti termici, inerzia chimica e stabilità strutturale a temperature elevate.

Posizionato strategicamente all'interno di tubi o camere di reazione, il deflettore aiuta a distribuire uniformemente i gas di processo, ridurre la turbolenza e minimizzare la contaminazione da particelle. Il suo design robusto resiste a ripetuti cicli termici, mantenendo prestazioni costanti durante i processi di diffusione, ossidazione, LPCVD e ricottura.

Funzione dei fori sui deflettori di quarzo

I fori su un deflettore di quarzo svolgono diverse funzioni critiche nell'elaborazione dei wafer a semiconduttore:

  • Anche la distribuzione del gas –Consentono ai gas di processo (ad esempio, ossigeno, azoto o gas dopanti) di scorrere uniformemente attraverso i wafer, prevenendo esposizioni disomogenee.
  • Uniformità termica –Consentendo un flusso di gas controllato, i fori aiutano a mantenere una temperatura stabile su tutte le superfici dei wafer, riducendo i punti caldi.
  • Controllo della contaminazione –I fori aiutano a prevenire il riflusso o la turbolenza che potrebbe trasportare particelle sulla superficie del wafer, migliorando la pulizia del processo.
  • Maggiore efficienza dei processi –I fori progettati correttamente ottimizzano la miscelazione e la diffusione del gas, portando a risultati di deposizione o ossidazione del film più costanti.

In breve, i fori trasformano il deflettore da semplice barriera in un dispositivo di controllo del flusso di precisione che garantisce un trattamento uniforme e affidabile dei wafer.

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