Nome:
Cupola Cena in Quarzo da 12 pollici
Funzione e applicazione:
La cupola di quarzo per la cena funge da componente centrale della camera di reazione, svolgendo ruoli critici come isolamento vuoto/gas, resistenza alla deformazione termica, uniformità della radiazione termica e guida dei gas di processo (tramite la superficie centrale trasparente dell'arco). Viene applicato nei processi di crescita epitassique, che sono processi ad alta temperatura.
Requisiti di prestazione:
Alta resistenza alle temperature, resistenza alla corrosione, eccellente stabilità termica, materiale OPOPACO e basso contenuto di impurità.
N.5177 Qianghua West Road, Dongqian Street, Distretto di Nanxun, Città di Huzhou, Provincia di Zhejiang
+86-572-3032373
+86-572-3033016
IlCupola Cena di Quarzo sono componenti di precisione utilizzati in processi di produzione di semiconduttori e fotovoltaici che richiedono superfici ultra-pulite e lisce. Realizzate in quarzo fuso ad alta purezza, queste lastre sono sottoposte a tecniche avanzate di lucidatura per ottenere una superiore piattezza superficiale e una nitidezza ottica.
La loro eccezionale inerzia chimica e stabilità termica le rendono ideali per l'uso in ambienti ad alta temperatura, come in reattori di diffusione, ossidazione e CVD. La superficie lucidata minimizza l'adesione e la contaminazione delle particelle, sostenendo un elevato rendimento e una coerenza di processo.
Le cupole di quarzo per la cena sono componenti essenziali nella crescita dello strato epitasiale dei semiconduttori, fornendo un ambiente stabile e ad alta purezza per la lavorazione dei wafer. La loro struttura accurata garantisce una distribuzione termica uniforme sulla superficie del wafer, fondamentale per ottenere uno spessore dello strato epitassiale costante e una crescita cristallina di alta qualità.
Realizzate in quarzo fuso ad alta purezza, le cupole per la cena offrono un'eccellente resistenza alle alte temperature e alla corrosione chimica, minimizzando la contaminazione e garantendo affidabilità a lungo termine nei forni epitassiali ad alta temperatura. Mantenendo un'atmosfera controllata e proteggendo le wafer dalla radiazione termica diretta, le cupole di quarzo per la cena migliorano l'uniformità del processo, la resa dei wafer e riducono i difetti.
Questi componenti sono ampiamente utilizzati nella fabbricazione di semiconduttori, nella ricerca e sviluppo, e nelle apparecchiature epitassiali avanzate. Sono disponibili progetti personalizzati per adattarsi a specifiche dimensioni dei forni e ai requisiti di processo, rendendo le cupole di quarzo per la cena un elemento chiave nella moderna produzione di wafer.