Nome:
Barca in quarzo da 6 pollici
Funzione e applicazione:
La piastra curva a forma d'arco presenta due file di piccoli fori al centro, permettendone l'uso in ambienti ad alta purezza di azoto, ossigeno o altri gas inerti. Questo design garantisce un riscaldamento uniforme e una reazione completa con i gas di processo senza contaminare le wafer di silicio. Viene applicato nei processi di fabbricazione di wafer ad alta temperatura come la diffusione, l'ossidazione e la deposizione CVD.
Requisiti di prestazione:
Alta resistenza a temperature, resistenza alla corrosione, eccellente stabilità termica, superficie sabbiata e basso contenuto di impurità.
N.5177 Qianghua West Road, Dongqian Street, Distretto di Nanxun, Città di Huzhou, Provincia di Zhejiang
+86-572-3032373
+86-572-3033016
IlBarca di quarzo in piastrelle di buona qualitàè un portatore di wafer ad alte prestazioni progettato per l'uso in processi di fabbricazione di semiconduttori ad alta temperatura come diffusione, ossidazione e deposizione CVD. Realizzata in quarzo fuso ad alta purezza, questa barca presenta una piastra curva a forma di arco con due file centrali di fori forati con precisione. Questo design favorisce un flusso uniforme dei gas e un riscaldamento costante su tutte le superfici dei wafer, garantendo una reazione completa e pulita con i gas di processo in atmosfere controllate come azoto, ossigeno o altri gas inerti.
La sua superficie sabbiata riduce la perdita di particelle migliorando la stabilità termica e l'aderenza meccanica durante la lavorazione. Con un'eccellente resistenza alle alte temperature e a ambienti corrosivi, insieme a bassi livelli di impurità, questa barca in piastrelle garantisce prestazioni senza contaminazioni e posizionamento stabile dei wafer. È ideale sia per ambienti di produzione che di ricerca e sviluppo dove la coerenza del processo e la purezza dei materiali sono fondamentali.
Le barche di quarzo di buona qualità svolgono un ruolo fondamentale nell'industria dei semiconduttori, specialmente durante i processi di fabbricazione di wafer ad alta temperatura. Questi portatori progettati con precisione sono progettati per tenere saldamente i wafer di silicio, garantendo al contempo un riscaldamento uniforme e un flusso ottimale di gas all'interno dei forni di lavorazione.
Le barche in quarzo supportano wafer durante la diffusione, dove i dopanti vengono introdotti nel substrato di silicio ad alte temperature. Il loro design consente una distribuzione uniforme del gas, aiutando a ottenere una penetrazione uniforme del dopante su tutte le wafer.
Durante l'ossidazione, le wafer di silicio formano uno strato sottile di ossido sulla loro superficie. Il materiale e il design perforato della barca in quarzo garantiscono condizioni termiche stabili e un flusso di gas, essenziali per uno spessore costante dell'osside.
Nei processi CVD, i film sottili vengono depositati sulle wafer tramite reazioni chimiche di precursori gassosi. Le barche in quarzo facilitano un'esposizione uniforme delle wafer ai gas reattivi, migliorando l'uniformità e la qualità del film.
Le barche di quarzo di buona qualità sono strumenti essenziali nella produzione di wafer a semiconduttore, garantendo un controllo preciso degli ambienti termici e chimici. Il loro design unico e le proprietà dei materiali contribuiscono in modo significativo alla qualità, alla resa e all'affidabilità complessiva del processo.